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     首页 > 新闻资讯  > 制造与封装

制造与封装

3D NAND Flash存储器超快蚀刻技术

来源:光刻人笔记 3D NAND Flash存储器的超快蚀刻技术是当前半导体制造领域的重要突破之一。这项技术主要通…

2024-08-21

制造与封装

降低半导体金属线电阻的沉积和刻蚀技术

作者:泛林集团 Semiverse Solutions 部门软件应用工程师 Timothy Yang 博士 01 介绍 铜的电阻率由其晶体结构…

2024-08-19

制造与封装

imec使用ASML High-NA EUV实现逻辑、DRAM结构图案化

来源:综合网络 近日,比利时微电子研究中心imec宣布,在其与ASML合作的High-NA EUV光刻实验室首次成功利用0.…

2024-08-12

制造与封装

Cisco基于FPOP封装方式的3.2Tbps光学引擎

来源:光学追光者 2024年ECTC会议Cisco推出基于扇出技术的先进封装,集成PIC和EIC。目前基于CPO有多种方案,…

2024-08-08

制造与封装

后摩尔时代的芯片优化:台积电的DTCO技术解析

来源:逍遥科技简介随着先进制程节点线宽微缩速度放缓,以及新电晶体架构(如GAA)的引入,半导体行业面临着新…

2024-07-30

制造与封装

【前沿技术】晶圆AOI检测是什么?

来源: 微纳研究院一、晶圆AOI检测技术的由来 在科技日新月异的今天,从智能手机到高性能计算机,再到各种…

2024-07-19

制造与封装

剑桥大学|SiC 电力电子封装:浮动芯片结构和液态金属流体连接

剑桥大学研究人员发表了一篇题为“液态金属流体连接和浮动模具结构用于碳化硅电力电子封装超低热机械应力”的…

2024-07-19

先进封装

安森美SiC模块,为可靠高效的换电站快充电路设计提供新灵感

来源:安森美 在电动车发展的过程当中,充电和换电是两个同时存在的方案。车载充电OBC可以通过两相或三相电给…

2024-07-10

制造与封装

中科院微电子所存内计算有新进展

存内计算(CIM)芯片相比传统冯诺依曼架构芯片在宏单元层级实现了高能效,但系统层级的复杂周边电路使得系统能…

2024-07-10

制造与封装

北大王玮教授团队在芯片热管理领域取得进展

来源:北京大学集成电路学院随着GaN为代表的新一代宽禁带半导体材料的广泛应用,功率器件的性能大幅度提高。然…

2024-07-03

制造与封装

增进LLC电源转换器同步整流与轻载控制模式兼容性的参数选择策略

作者:安森美公司在追求高转换效率的电源转换器应用中,采用 LLC 谐振的 LLC 谐振电源转换器(resonant power…

2024-06-20

制造与封装

Shin-Etsu Chemical:开发用于后端工艺的半导体封装基板制造设备并寻求新的制造方法

—有助于降低正在进行的小芯片开发的成本— 采用Shin-Etsu双大马士革法加工的两层样品(横截面图)(照片:美…

2024-06-14

制造与封装

了解 ADAS 和车舱监控系统对网络安全图像传感器的需求

作者:Ludovic Rota,安森美产品营销经理要让人们认识到汽车网络安全的重要性并不容易。随着汽车向半自动驾驶…

2024-05-15

制造与封装

仿真微调:提高电力电子电路的精度

作者:James Victory,安森美电源方案事业群 TD 建模和仿真方案研究员在电力电子和电路仿真领域,精度至关重要…

2024-04-29

制造与封装

您准备好在您的工厂实现自动化程度更高的实时的智能决策吗?

作者:应用材料公司Bing WangSmartFactory计算机集成制造(CIM)解决方案可以帮助制造商实现从前道晶圆制造到…

2024-04-16

制造与封装

自动紧急制动系统(AEB) 提案已落后于最新的汽车解决方案吗?

作者:安森美汽车感知部 产品经理 Narayan Purohit2023年5月,美国国家公路交通安全管理局(NHTSA)宣布了一…

2024-04-15

制造与封装

使用大面积分析提升半导体制造的良率

大面积分析技术可以预防、探测和修复热点,从而将系统性、随机性和参数缺陷数量降至最低,并最终提高良率 作者…

2024-03-06

制造与封装

是德科技推出带宽超过50 GHz示波器探头

带宽超过 50 GHz的高阻抗探测解决方案一站式高阻抗探测解决方案提供了高达 52 GHz Brickwall 和 40 GHz Besse…

2024-02-05

测试、检查

使用SEMulator3D进行虚拟工艺故障排除和研究

SEMulator3D 工艺建模在开发早期识别工艺和设计问题,减少了开发延迟、晶圆制造成本和上市时间 作者:泛林集…

2024-01-31

制造与封装

为刻蚀终点探测进行原位测量

使用SEMulator3D工艺步骤进行刻蚀终点探测 作者:泛林集团 Semiverse Solutions 部门软件应用工程师 Pradee…

2024-01-22

刻蚀

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2024年 12月/2025年1月

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