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     首页 > 新闻资讯  > 制造与封装

制造与封装

DSA 和 EUV:实现细间距光刻的互补性技术​

DSA 和 EUV:实现细间距光刻的互补性技术作者:Douglas J. Guerrero 博士资深技术专家,Brewer Science 常驻校…

2018-01-12

制造工艺

半导体行业应在摩尔定律和市场需求中取得平衡

半导体行业应在摩尔定律和市场需求中取得平衡作者:泛林集团中国区首席技术官 周梅生请回溯到上世纪80年代,想…

2018-01-12

制造与封装

创新电镀化学技术实现铜互连扩展至5nm及以下

aveni S.A.运用创新电镀化学,将铜互连扩展至5nm及以下节点以实现BEOL集成最新发现证明,aveni S.A.的Sao™电…

2018-01-12

制造工艺

高性能Volta系列探针头

Smiths Interconnect正式推出高性能Volta系列探针头,用于晶圆级芯片封装测试全球领先的电子元器件、连接器、…

2018-01-12

测试、检查

EUV将光刻步骤大幅缩减

参观格罗方德位于纽约Malta镇的晶圆厂Fab8的时候,有人对我说“代工厂简直跟冰山似的”,我不知道那是谁说的,…

2018-01-11

制造工艺

堆叠组装 (PoP) 技术基本流程

堆叠组装,英文为Package-on-Package(PoP)。简而言之,就是采用两个或两个以上的BGA(球栅阵列封装)堆叠而成的…

2018-01-10

封装技术

柔性屏幕——显示技术的大势所趋

柔性屏幕——显示技术的大势所趋Kerry Cunningham, 应用材料公司显示产品事业部产品营销经理随着更先进的制造…

2018-01-08

制造与封装

成品率管理走向环保之路

成品率管理走向环保之路 作者:David W. Price, Douglas G. Sutherland 和 Kara L. Sherman; KLA-Tencor 公司…

2018-01-08

测试、检查

等离子刻蚀中的硅片表面均匀性控制技术演进

等离子刻蚀中的硅片表面均匀性控制技术演进 作者:Stephen Hwang, 泛林集团技术总监 Keren Kanarik, 泛林集团…

2018-01-07

制造工艺

FD-SOI:这种开创性技术将如何进入主流市场

MANUEL SELLIER, Soitec, Bernin (Grenoble), France由于FD-SOI具有独特的性能,其市场应用范围广阔,正在引起…

2018-01-06

制造与封装

湿法批量旋转喷雾式功率器件制造

湿法批量旋转喷雾式功率器件制造 历史告诉我们,在找到解决方案之前,首先要出现需要解决的问题。Siconnex的历…

2018-01-06

制造工艺

针对光学和 EUV 空白光罩的全新FlashScan检测产品

KLA-Tencor推出针对光学和EUV 空白光罩的全新FlashScanTM产品线加利福尼亚州米尔皮塔斯市,2017年8月15日 -- …

2018-01-06

制造与封装

格芯技术平台开启“互联智能”向5G过渡的全新时代

格芯公布针对下一代5G应用的愿景和路线图技术平台的独特定位开启“互联智能”向5G过渡的全新时代加利福尼亚,…

2018-01-06

制造工艺

完整的从设计到封装的验证和分析套件,支持 TSMC 的创新 InFO 集成扇出型高级封装和 CoWoS® 晶圆基底芯片封装技术

Mentor, a Siemens business 宣布为 Calibre nmPlatform、Analog FastSPICE™ (AFS™) Platform、Xpedition P…

2018-01-05

制造与封装

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