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     首页 > 新闻资讯  > 制造与封装 > 刻蚀

刻蚀

为刻蚀终点探测进行原位测量

使用SEMulator3D工艺步骤进行刻蚀终点探测 作者:泛林集团 Semiverse Solutions 部门软件应用工程师 Pradee…

2024-01-22

国家纳米中心等在硅衬底上单层WS2二次谐波高效定向性发射研究方面获进展

来源: 国家纳米科学中心 近日,中国科学院国家纳米科学中心刘新风团队与北京大学、北京理工大学研究团队合作…

2022-09-09

智能刻蚀带来突破性的生产力提升

作者:Vahid Vahedi 高级副总裁兼刻蚀事业部总经理 ,泛林集团(Lam Research) 增加电路密度而不必移动到新…

2022-01-25

加速特征相关(FD)干法刻蚀的工艺发展

来源:Lam Research—— SEMulator3D中可视刻蚀特征提供了一种模拟与现实刻蚀腔室接近的刻蚀速率的方法在干法…

2021-11-15

本期内容

2024年 10/11 月

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